旋转硅铝靶

品       名：旋转硅铝靶

材       质：Si、Al，SiAl比例按客户需求生产

纯       度：99.99%

制作工艺：真空热喷涂 

产品优点：含氧量低，致密度高，纯度保障
产品用途：真空镀膜，实验或研究级别用硅靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等