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磁控溅射靶材多弧铬靶/圆饼铬靶

  • 宝鸡欧凯
  • 99.5%—99.99%
  • <100um

品    名:磁控溅射靶材多弧铬靶/圆饼铬靶

材    质:铬

纯    度:99.5%—99.99%          

晶 粒 度:<100um

应用领域:工具镀膜、装饰镀膜

制作工艺:粉末装填热等静压成锭,机械处理和精密机械加工

产品用途:真空镀膜,实验或研究级别用铬靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等。

产品优点:真空装填,提纯制备,纯度高,杂质少;轧制致密,氧化少,成型可塑;相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高。


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