磁控溅射靶材多弧铬靶/圆饼铬靶

品    名：磁控溅射靶材多弧铬靶/圆饼铬靶

材    质：铬

纯    度：99.5%—99.99%          

晶 粒 度：＜100um

应用领域：工具镀膜、装饰镀膜

制作工艺：粉末装填热等静压成锭，机械处理和精密机械加工

产品用途：真空镀膜，实验或研究级别用铬靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等。

产品优点：真空装填，提纯制备，纯度高，杂质少；轧制致密，氧化少，成型可塑；相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高。