真空镀膜高纯铝靶材 旋转铝靶

品 名：真空镀膜高纯铝靶材 旋转铝靶

材 质：Al

纯 度：99.99%

晶 粒 度：<100um

应用领域：实验或研究级别用铝旋转靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等