高纯铝钛硅靶材 喷涂钛硅靶材

品 名：高纯铝钛硅靶材 喷涂钛硅靶材

材 质：Ti、Si

纯 度：99.99%

规格：根据客户要求定制，可根据图纸加工。

制作工艺：真空磁悬浮熔炼，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工

产品优势：质量可靠，价格优惠真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少相对致密度高，晶粒均与等轴，一致性高

应用领域：真空镀膜，实验或研究级别用镍钒靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等