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品 名：高纯溅射铜靶材 供应精品铜靶材
材 质：Cu
纯 度：99.99%
晶粒度：<100um
产品规格：根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工。
应用领域：真空镀膜，实验或研究级别用铜靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等。
产品优点：质量可靠，价格优惠真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少相对致密度高，晶粒均与等轴，一致性高。
若您对以上产品或价格有任何疑问，欢迎点击询价服务，客服会在第一时间回复您!
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应用领域：真空镀膜，实验或研究级别用铜靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等。
产品优点：质量可靠，价格优惠真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少相对致密度高，晶粒均与等轴，一致性高。
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