品名:溅射靶材厂家专业供应半导体材料-硅靶材 硅平面靶材
材质:Si
纯度:99.99%
生产工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工
产品应用:真空镀膜,实验或研究级别用钛硅靶材,电子,半导体,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等
品名:溅射靶材厂家专业供应半导体材料-硅靶材 硅平面靶材
材质:Si
纯度:99.99%
生产工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工
产品应用:真空镀膜,实验或研究级别用钛硅靶材,电子,半导体,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等
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