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厂家供应平面溅射钼靶 真空镀膜钼靶材

  • 欧凯靶材
  • Mo
  • 99.95%
  • <100um
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品 名:厂家供应平面溅射钼靶 真空镀膜钼靶材


产 地:陕西宝鸡


材 质:Mo


纯 度:99.95%


晶粒度:<100um


密 度:≥10.15g/cm3


应用领域:


经过变形量达到60%以上的轧制加工后,钼片的密度基本上接近于钼的理论密度,因此其具有高强度,内部组织均匀和优良的抗高温蠕变性能,从而被广泛应用于生产蓝宝石晶体生长炉内的反射屏、盖板,真空炉内的反射屏、发热带、连接件,等离子镀膜用的溅射靶材,耐高温舟皿等制品。


钼靶材属性:


溅射作为一种先进的薄膜材料制备技术,具有“高速”及“低速”两大特点。它利用离子源产生的离子,在真空中加速聚集成高速离子流,轰击固体表面,离子和固体表面的原子发生动能交换,使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面,从而形成纳米(或微米)薄膜。而被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。


钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜,这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品,如目前广泛应用的TFT-LCD(Thin Film Transitor-Liqu id C rysta I Displays,薄膜半导体管-液晶显示器),等离子显示屏、无极光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMDS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。


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