磁控溅射靶材 喷涂硅靶 平面硅靶

品名：磁控溅射靶材 喷涂硅靶 平面硅靶 

材质：硅

纯度：99.999%

晶粒度：＜100μm

生产工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工

产品应用：工业级镀膜，实验或研究级别用硅靶材 Sitarget，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等。