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真空镀膜用铌靶材 铌溅射靶材

  • 宝鸡欧凯
  • 99.95%-99.99%
  • <100μm

品名:真空镀膜用铌靶材  铌溅射靶材

材质:铌

纯度:99.95%-99.99%

晶粒度:<100μm

生产工艺:热轧,冷轧,碱洗,剪切而成

产品应用:微电子领域、硅片制造、平面显示器、存储技术领域。

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