真空镀膜用铌靶材 铌溅射靶材

品名：真空镀膜用铌靶材  铌溅射靶材

材质：铌

纯度：99.95%-99.99%

晶粒度：＜100μm

生产工艺：热轧，冷轧，碱洗，剪切而成

产品应用：微电子领域、硅片制造、平面显示器、存储技术领域。