高纯铌靶材-铌管靶- 磁控溅射铌靶材

纯度99.95铌靶 磁控溅射铌靶材

纯度：99.95

材质：Nb

晶粒度：均匀

牌号：Nb1，Nb2，F Nb1，F Nb2，R04210-2,R04261-4

用途：用于电子信息(集成电路表面镀膜)，平面显示器、溅射镀膜，船舶、化工以及耐热耐腐蚀高导电等镀膜工业等

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