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溅射靶材 真空镀膜用钽靶 钽圆靶 溅射钽靶

  • 欧凯
  • 钽
  • 99.9%-99.999%
  • ＜100μm
状态：

品名：溅射靶材 真空镀膜用钽靶 钽圆靶 溅射钽靶

纯度：99.9%-99.999%

材质：钽

晶粒度：＜100μm

生产工艺：原材料-电子束真空熔炼- 锻造-磨光-钽靶材成品

应用范围：镀膜（陶瓷、玻璃行业），溅射镀膜 蒸发镀膜  实验或研究级别

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