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溅射靶材 真空镀膜用钽靶 钽圆靶 溅射钽靶

  • 欧凯
  • 99.9%-99.999%
  • <100μm

品名:溅射靶材 真空镀膜用钽靶 钽圆靶 溅射钽靶

纯度:99.9%-99.999%

材质:钽

晶粒度:<100μm

生产工艺:原材料-电子束真空熔炼- 锻造-磨光-钽靶材成品

应用范围:镀膜(陶瓷、玻璃行业),溅射镀膜 蒸发镀膜  实验或研究级别

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