五氧化二铌靶材 磁控溅射氧化铌靶材

产品名称：五氧化二铌靶材

产品纯度：99.99%

产品材质：Nb2O5

产品规格：根据客户要求定制，来图加工

生产工艺：浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工

产品优点：质量可靠，价格优惠，纯度高，杂质少

产品用途：真空镀膜，实验或研究级别用五氧化二铌靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等