厂家供应磁控溅射靶材 铝铬合金靶 品质优价格低

品名：厂家供应磁控溅射靶材 铝铬合金靶 品质优价格低 

材料：Al、Cr

制造方法：热等静压工艺(HTP)

纯度：99.9%

晶粒尺寸：<100um

用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等。