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品名：钛铝平面靶材 钛铝合金靶材 专业制造商
材质：Ti Al
钛铝靶比例：(50:50 / 80:20 / 75:25 / 85:15)
制造方法：热等静压工艺(HTP)
纯度：99.98%
晶粒度：<100um
用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等
品名：钛铝平面靶材 钛铝合金靶材 专业制造商
材质：Ti Al
钛铝靶比例：(50:50 / 80:20 / 75:25 / 85:15)
制造方法：热等静压工艺(HTP)
纯度：99.98%
晶粒度：<100um
用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等
