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品 名：平面显示工业、光数据储存工业用镍靶 镍圆靶
材 质：Ni
纯 度：99.99%
晶粒度：＜100μm
生产工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工
应用领域：真空镀膜，实验或研究级别用镍靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等
品 名：平面显示工业、光数据储存工业用镍靶 镍圆靶
材 质：Ni
纯 度：99.99%
晶粒度：＜100μm
生产工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工
应用领域：真空镀膜，实验或研究级别用镍靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等
