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品 名：真空镀膜旋转钛硅靶 钛硅管靶材
产 地：陕西宝鸡
材 质：Ti、Si
纯 度：99.97%
晶粒度：均匀
工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工。
应用领域：真空镀膜，实验或研究级别用钛硅靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等。
硅(polycrystalline silicon)有灰色金属光泽，密度2.32~2.34g/cm3。熔点1410℃。沸点2355℃。
具有半导体性质，是极为重要的优良半导体材料。电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料。目前广泛用于STN、tft、Ai、TP等磁控溅射镀膜。
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