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真空镀膜旋转钛硅靶 钛硅管靶材

  • 欧凯靶材
  • Ti、Si
  • 99.97%
  • <100um

品 名:真空镀膜旋转钛硅靶 钛硅管靶材


产 地:陕西宝鸡


材 质:Ti、Si


纯 度:99.97%


晶粒度:均匀


工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工。


应用领域:真空镀膜,实验或研究级别用钛硅靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等。


硅(polycrystalline silicon)有灰色金属光泽,密度2.32~2.34g/cm3。熔点1410℃。沸点2355℃。


具有半导体性质,是极为重要的优良半导体材料。电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料。目前广泛用于STN、tft、Ai、TP等磁控溅射镀膜。


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