热等静压硅靶材 溅射靶材 喷涂硅靶 价格优惠

品名：热等静压硅靶材  溅射靶材 喷涂硅靶 价格优惠

材质：Si

纯度：99.99% 

生产工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工

产品应用：真空镀膜，实验或研究级别用钛硅靶材，电子，半导体，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等