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真空镀膜用铌旋转靶材 铌溅射靶材 出厂价

  • 宝鸡欧凯
  • 99.95%
  • <100μm

品名:真空镀膜用铌旋转靶材  铌溅射靶材 出厂价

材质:铌

纯度:99.95%

晶粒度:<100μm

生产工艺:热轧,冷轧,碱洗,剪切而成

产品应用:微电子领域、硅片制造、平面显示器、存储技术领域。

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