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工业用溅射靶材 高纯铬靶材

  • 欧凯靶材
  • Cu、Cr
  • 99.99%
  • <100um

品 名:工业用溅射靶材 高纯铬靶材

材 质:Cr、Cu

纯度:99.99%

晶 粒 度:<100um

应用领域:真空镀膜,实验或研究级别用铜靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等


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