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工业用溅射靶材 高纯铬靶材

  • 欧凯靶材
  • Cu、Cr
  • 99.99%
  • ＜100um
状态：

品 名：工业用溅射靶材 高纯铬靶材

材 质：Cr、Cu

纯度：99.99%

晶 粒 度：<100um

应用领域：真空镀膜，实验或研究级别用铜靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等


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