在电子行业中，为了提高溅射效率和确保沉积薄膜的质量，对钼溅射靶材特性有如下要求。

钼是一种金属元素，主要用于钢铁工业，其中的大部分是以工业氧化钼压块后直接用于炼钢或铸铁，少部分熔炼成钼铁 钼箔片后再用于炼钢。它可增强合金的强度、硬度、可焊性及韧性，还可增强其耐高温强度及耐腐蚀性能。

随着电子行业综合性能和使用环境要求的提高, 钼合金靶材也表现出了其独特的性能。钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜, 这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品。

根据目前的高纯钼溅射靶材的研究现状，可知国内高纯金属的提纯技术与工业发达国家的差距较大。现如今，国内提供的多数高纯金属，按照行业常规的全元素分析方法，还不能满足薄膜技术对溅射靶材的质量要求。故对于国内而言，发展超高纯的钼溅射薄膜靶材任重而道远。　

随着科技的发展，溅射靶材在各个行业应用广泛。宝鸡欧凯溅射靶材今天主要为大家介绍钼靶材和铝靶材的生产工艺。