靶材就是目标材料。用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。

真空磁控溅射镀膜现在已经成为工业镀膜生产中最主要的技术之一。但是对于镀膜靶材的相，还有不少朋友存在相关疑问，下面我们就请欧凯溅射靶材专家为我们做出相关讲解。

电子产品在各行各业中都有所应用，而这些电子产品大部分都需要进行镀膜后才投入到市场之中，现在常用的真空镀膜设备是磁控溅射真空镀膜机.

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。

关于真空溅射镀膜膜层为什么会脱落这个问题，原因涉及到以下几个方面。

所谓溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。溅射镀膜与真空镀膜相比，有不同的特点。