非平衡磁控溅射是指如果通过磁控溅射阴极的内、外两个磁极端面的磁通量不相等，则为非平衡磁控溅射阴极。

众所周知，真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射，那么，蒸发镀膜和溅射镀膜有什么区别?不少新手朋友有这样的疑问，下面我们就看看欧凯靶材专家为我们做出的相关讲解。

溅射镀膜就是最近发展起来的一种新的表面处理技术。表面处理技术能使材料的物理,机械和化学性能得到提高，而溅射镀膜比以往的真空镀膜具有“高速、低温”两个显著的特点。

真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。主要分为：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜，是指在真空中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射，沉积到基片表面形成单层或多层薄膜。宝鸡欧凯溅射靶材主要为大家介绍真空镀膜的原理。　

真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜(也是金属反射膜的三种镀膜方式)。　

所谓溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。溅射镀膜与真空镀膜相比，有不同的特点。

如今磁控溅射镀膜技术已较为成熟，广泛应用于各种科技领域。但是到底什么是磁控溅射镀膜呢？