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磁控溅射

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  • 三月
    22
    PVD涂层钛铝靶材制造及应用

  • 八月
    16
    PVD磁控溅射真空镀膜注意事项

    PVD的全称是物理气象沉积,即英文(Phisical Vapor Deposition)的简写形式。 目前PVD主要有蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,多弧离子镀膜,化学气相沉积等形式。

  • 八月
    11
    磁控溅射薄膜均匀性问题

    磁控溅射薄膜均匀性是一项重要指标,因此有必要研究影响磁控溅射均匀性的影响因素,以便更好的实现磁控溅射均匀镀膜。

  • 七月
    12
    什么是磁控溅射?

    磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。

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