不少朋友对于靶材的保养都存在着大大小小的疑惑，近期也有不少客户资源欧凯关于靶材保养的相关问题，下面就这一问，专家做出来以下相关讲解。

真空热压是利用热能与机械能将材料陶瓷致密化的工艺，可制备出密度达91%~96%的高密度ITO陶瓷靶。

近年来，越来越多的国内外研究人员通过向基靶内添加稀土元素来改良靶材性能，进而提高溅镀薄膜的综合性能。　　

密度也是靶材的关键性能指标之一.在靶材的技术工艺中为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，一般是要求靶材必须具有较高的密度。因为靶材主要特性密度对溅射速率有着很大的影响，并且影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。

高纯铝溅射靶材行业的发展情况。随着电子新材料行业的快速发展,以高纯铝为基础的电子新材料产品(包括靶材)需求将保持高速增长。十一五期间，我国“国家高技术研究发展计划(863计划)新材料技术领域“要求达到的目标是：通过超高纯铝及铝合金靶材制备加工过程中的关键技术....

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

什么是ito靶材?ITO靶材就是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结(1600度，通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。

欧凯靶材公司指出，靶材自动探伤由溅射材料和靶托通过钎焊层连接。钎焊质量影响靶材界面层导热性能,甚至导致脱焊或融化。靶材的突然脱落会造成设备的严重损坏,导致重大经济损失。因此,靶材钎焊层必须具备良好的导电性和导热性, 同时还必须具备足够的强度。