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真空镀膜靶材的中毒现象及处理方法

浏览数量:26     作者:本站编辑     发布时间: 2017-06-30      来源:本站

真空镀膜靶材的中毒现象及处理方法

  影响靶材中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶中毒。那么在真空镀膜靶材中毒会出现什么现象?又如何处理呢?宝鸡欧凯帮您寻找答案。

  靶中毒现象

  (1)正离子堆积:靶中毒时,靶面形成一层绝缘膜,正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡,不能直接进入阴极靶面,而是堆积在靶面上,容易产生冷场致弧光放电---打弧,使阴极溅射无法进行下去。

  (2)阳极消失:靶中毒时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳极的电子无法进入阳极,形成阳极消失现象。

  靶中毒的解决办法

  (1)采用中频电源或射频电源。

  (2)采用闭环控制反应气体的通入量。

  (3)采用孪生靶

  (4)控制镀膜模式的变换:在镀膜前,采集靶中毒的迟滞效应曲线,使进气流量控制在产生靶中毒的前沿,确保工艺过程始终处于沉积速率陡降前的模式。


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