真空热压法制备ITO靶材的优缺点

　　真空热压是利用热能与机械能将材料陶瓷致密化的工艺，可制备出密度达91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材。热压法的工艺流程是利用加热加工模具后，注入试料，以压力将模型固定于加热板，控制试料之熔融温度及时间，以达融化后硬化、冷却，再予以取出模型成品即可。

　　热压法是加压成型和加热烧结同时进行的工艺，此工艺的优点是：

　　(1)热压时，因为粉末处于热塑性状态，形变阻力小，易于塑性流动和致密化，所以所需的成型压力较小。

　　(2)由于同时加温、加压，有助于粉末颗粒的接触、扩散和流动等传质过程，降低了烧结温度和缩短烧结时间，抑制了晶粒的长大。

　　(3)热压法容易获得接近理论密度、气孔率接近于零的烧结体，容易得到细晶粒的组织。

　　此方法的主要缺点为：由于受热压设备压力和模具尺寸所限，靶材尺寸较小，目前靶材最大尺寸为400×300mm;对模具材料要求高(一般为高纯高强石墨)，模具寿命短，损耗大，且在高温下与ITO靶材容易发生还原反应。热压机需要进口，而且不适于工业化连续生产，生产效率低，产品成本高;靶材晶粒均一性差。