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高纯钼溅射靶材的开发状况

浏览数量:5     作者:本站编辑     发布时间: 2017-07-26      来源:本站

高纯钼溅射靶材的开发状况

  根据目前的高纯钼溅射靶材的研究现状,可知国内高纯金属的提纯技术与工业发达国家的差距较大。现如今,国内提供的多数高纯金属,按照行业常规的全元素分析方法,还不能满足薄膜技术对溅射靶材的质量要求。靶材中夹杂物的数量过多或分布不均,在溅射过程中常在晶圆上形成微粒,导致溅射厚度不均匀或溅射效率较低,严重影响薄膜性能。故对于国内而言,发展超高纯的钼溅射薄膜靶材任重而道远。

  钼溅射靶材大部分使用粉末冶金方法制备,故其中夹杂物绝大部分使用粉末冶金方法制备,故其中夹杂物绝大部分是在烧结或后续加工过程中形成,主要是由氧化物组成,还包括氮化物、碳化物、氢化物、硫化物、硅化物等。因此,在烧结和后续加工过程中,应选用由还原材料制造的器具,一般采用在真空或无氧环境下烧结、轧制或锻造,并且研究出更先进的加工方法和设备,以达到相应要求。


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