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多晶硅靶材是什么

浏览数量: 271     作者: 欧凯靶材小编     发布时间: 2017-12-06      来源: 欧凯靶材

多晶硅靶材是什么

  【疑问】多晶硅靶材是什么?


  多晶硅是一种重要的溅射靶材材料,使用磁控溅射方法制备SiO2等薄膜层,可以使基体材料具备更好的光学、介电及抗蚀性能,被广泛应用到触摸屏、光学等行业中。


  宝鸡欧凯靶材采用美国GT-Solar公司的多晶硅铸锭炉的铸造长晶工艺可制备出的硅靶材材料,具有纯度高、导电性优异、晶粒均匀等特点,硅材料最大尺寸可达1m×1m。结合本公司先进的金刚石带锯、金刚线切割、多线切割等先进加工设备及工艺,可制作出多种不同尺寸的靶材产品。


  铸造长晶工艺,是通过精确控制铸锭炉热场中的加热器温度、隔热材料的散热量,来实现液态硅从底部开始,逐渐向顶部的定向凝固,凝固长晶速度为0.8~1.2cm/h。同时在定向凝固过程中,可以实现金属元素在硅材料中的分凝效应,实现大多数金属元素的提纯,并形成了均匀的多晶硅晶粒组