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溅射和溅射靶材的区别和用途

浏览数量:398     作者:欧凯靶材小编     发布时间: 2018-01-15      来源:欧凯靶材

溅射和溅射靶材的区别和用途

  我们都了解:溅射是制备膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。


  溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

  溅射靶材的种类相当多,靶材的分类有不同的方法:


  根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材。


  根据形状分为长靶,方靶,圆靶。


  根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、其他靶材。


  根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等。


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