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溅射工艺有哪几种

浏览数量:48     作者:本站编辑     发布时间: 2017-09-20      来源:欧凯靶材

溅射工艺有哪几种

溅射镀膜就是最近发展起来的一种新的表面处理技术。表面处理技术能使材料的物理,机械和化学性能得到提高,而溅射镀膜比以往的真空镀膜具有“高速、低温”两个显著的特点.


靶材形状:板材,圆片,矩形,方形,圆环,圆棒,台阶圆片,台阶矩形,三角形,管状靶,套靶等或按客户要求订做,可根据客户提供的图纸要求加工. 并可以为客户提供部分靶材的邦定服务.


参考尺寸:直径 ≦355.6mm (14英寸) ,长度≦1000mm ,宽度≦200mm ,厚度≦20mm


溅射工艺有哪几种?


溅射工艺主要用于溅射刻蚀和薄膜淀积两个方面。


淀积薄膜时,溅射源置于靶极,受氩离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的,则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜;若在溅射室内有意识地引入反应气体,使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底,便可形成靶极材料的化合物薄膜,通常,制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。


溅射刻蚀时,被刻蚀的材料置于靶极位置,受氩离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。溅射刻蚀时,应尽可能从溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体,使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体,通过真空系统从溅射室中排出。


溅射靶材厂家哪家好?


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