一种高致密性氧化铌旋转靶材的制备方法

       目前市场上用得最多的是氧化铌平面靶材，虽然平面靶材技术趋于成熟，但是平面靶材在使用过程中利用率只有20% — 25%，也就是大部分的靶材被浪费掉，无形中增加了生产成本。为了提高靶材利用率和降低生产成本，人们在不断研究新的靶材型体，经过多年的研究，发现旋转靶的利用率非常高，可达到70% — 80%，高利用率可降低下游产品的成本，同时更环保更节约材料。

       氧化铌靶材是制备AR玻璃(减反射玻璃)，消影ITO玻璃的重要材料。AR玻璃是利用国际上最先进的磁控溅射镀膜技术在普通的强化玻璃表面镀上一层氧化铌减反射膜，可有效地消减了玻璃本身的反射，增加了玻璃的透过率，使原先透过玻璃的色彩更鲜艳，更真实。目前氧化铌旋转靶材的生产主要采用喷涂工艺，此工艺生产的靶材密度低，一般小于80%，在使用过程中容易打火、掉渣，影响下游产品的质量及成品率。目前一些对溅射质量要求高的厂家都进口国外的旋转靶材，成本高，而且受制于人，所以对制备高致密性的旋转靶材工艺的开发是发展的必然趋势。

       这种高致密性氧化铌旋转靶材的制备方法，其特征在于一种高致密性氧化铌旋转靶材的制备方法，按以下步骤进行: 一、氧化铌粉体预处理:将质量比为20:1~50:1的高纯氧化铌粉和钽粉混合均匀后，在常压烧结炉中于350~550°C下煅烧I~3小时，得到预处理后的氧化铌粉体； 二、旋转靶粗品的制备:将步骤一所得的预处理后的氧化铌粉体装入模具中，并在模具与粉体的接触面涂抹二硫化钥粉；先将模具放入真空热压烧结炉中，在真空环境下，将温度均匀升至10°C~1300°C，加压至15~30Mpa后，保温保压1~5小时；然后采用高温脱模工艺在400~1100°C对旋转靶进行脱模，再降至常温，即制得旋转靶粗品； 三、精加工处理:将步骤二中制得的旋转靶粗品进行机械加工、清洗和检验，即为成品。