我国溅射靶材行业发展前景

　　溅射靶材在国际、国内市场都呈现出快速增长的势头，规模应用和产业化时代已经到来。靶材产业发展的趋势首先是市场分化，技术含量较低的产品将逐渐面临更为激烈的竞争。众多小型靶材公司具有灵活的机制、低廉的生产成本，这将使得低端靶材市场形成价格战为主的模式;而靶材在磁记录、半导体、太阳能等高端产业的市场，将会继续呈现技术引领的态势，国内外技术先进的靶材供应商将在竞争中占有绝对优势，镀膜厂家对靶材供应商将具有更强的依赖性。

　　溅射靶材将会呈现不同应用领域发展不均衡的状况。在装饰镀膜行业，镀膜厂家产品转型，溅射靶材产能相对饱和，增长空间有限。工具镀膜行业，国外靶材公司将会稳步增长，但速度不会太快;而国内靶材公司由于高端镀膜市场工具镀膜用靶材处于开发阶段，随着产品开发成功，国产靶材的价格优势将会为国内靶材厂家赢得一定市场。磁存储行业，规模将继续扩大，磁记录用靶材也会蓬勃发展，国际国内市场都会有较大增长。半导体行业所需靶材品种繁多，每一种用量都很大，国外技术成熟，研发力量雄厚，将在很长一段时间内处于引领地位。太阳能行业发展潜力巨大，未来5～10年内，将会掀起一场新的绿色能源产业革命。可以预计，太阳能光伏发电在不远的将来会占据世界能源消费的重要席位，不但要替代部分常规能源，而且将成为世界能源供应的主体。随着太阳能行业进一步爆炸式增长，太阳能电池用溅射靶材将会迎来新一轮大规模增长。

　　溅射靶材的发展，将形成技术与服务决定企业成败的局面。技术力量雄厚，研发产品品种多并具有几种特有产品的靶材公司，会在市场竞争中取得话语权。规模的扩大，使销售过程对资金的要求提高，资金占用量加大，周转时间变长，这些都对靶材企业运营管理提出更高挑战。镀膜行业的扩大及发展，将会使得该行业竞争愈演愈烈，对靶材供应商的产品服务要求更高。售前售后服务好的靶材供应商，将会受到镀膜厂家的青睐。

　　提高溅射靶材利用率也是靶材发展的趋势。常规的长方体形和圆柱体形磁控溅射靶为实心的，是以圆环形永磁体在靶材表面建立环形磁场，在轴间等距离的环形表面形成刻蚀区，因而影响沉积薄膜厚度的均匀性，靶材的利用率仅为20%～30%。国内外正在推广应用的旋转圆柱磁控溅射靶是空心圆管，它可围绕固定的条状磁铁组件旋转，可360度均匀刻蚀靶面，靶材利用率高达80%。

　　随着低碳经济的兴起，节能环保是企业发展需要考虑的战略要素。靶材服务于节能环保行业，就行业本身而言也需要一个节能环保的生产环境，一方面这是顺应整个行业发展的需求，另一方面也是树立企业形象、赢得客户信心的保障。国内现有的小型靶材生产厂，须加以设备及作业环境改造，否则不仅规模难以发展起来，甚至还会面临关闭的风险。

　　总的来说，靶材行业前景广阔。镀膜产业的快速扩大及市场需求的急剧膨胀，无疑将带动靶材市场的快速发展。此外，靶材所属的新材料领域，目前已经得到了国家的高度重视和大力支持。在镀膜市场需求增多、国家扶持力度加大的情况下，一批靶材企业将会迅速成长起来，成为靶材行业的引领者，带动行业的发展，创造可观的经济效益和社会效益