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铜靶材主要技术指标

浏览数量:25     作者:本站编辑     发布时间: 2017-08-04      来源:本站

铜靶材主要技术指标

1、尺寸的确定及公差范围

根据实际需要,铜靶材需要高精度的外观尺寸,按照客户要求提供一定规格及偏差的靶材。

2、纯度要求

因此纯度的要求主要依据客户的使用用途来确定,以满足客户需要为依据。

3、微观结构要求

①晶粒:靶材的晶粒度大小影响靶材的溅射性能。因此晶粒的大小主要依据客户的使用要求,经过一系列锻打热处理达到用户要求。

②晶向:根据铜靶材的组织结构特点,采用不同的成型方法,热处理工艺等按用户要求进行控制。

4、外观质量要求

靶材表面必须无造成使用上不良的因素,依据客户要求,保证溅射过程的质量。

5、焊接结合率要求

铜靶材在溅射前与其他材料焊接在一起,则焊接后必须经过超声波检验,保证两者的不结合区域≥95%,满足大功率溅射的要求而不至于脱落。对于一体型则不需要进行超声波检测。

6、内部质量要求

鉴于靶材的使用条件,靶材内部需无气孔、夹杂物等缺陷。 结合实际需要与客户协商确定。

7、产品加工净化要求

对靶材进行全面的清洗,确保靶材表面无玷污和颗粒附加物附着后,直接进行真空包装,依据客户的要求。


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