当前所在位置: 欧凯靶材 » 新闻中心 » 溅射靶材相关技术文档 » PVD磁控溅射真空镀膜注意事项

PVD磁控溅射真空镀膜注意事项

浏览数量:59     作者:本站编辑     发布时间: 2017-08-16      来源:本站

PVD磁控溅射真空镀膜注意事项

PVD的全称是物理气象沉积,即英文(Phisical Vapor Deposition)的简写形式。 目前PVD主要有蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,多弧离子镀膜,化学气相沉积等形式。 PVD总的来说属于绿色环保产业,和其他行业相比,对人体有害很小,但不是没有。当然,也完全可以有效减少,甚至完全消除。


PVD磁控溅射真空镀膜注意事项:


1.辐射:有些镀膜要用到射频电源,如功率大,需做好屏蔽处理。另外,欧洲标准在单室镀膜机门框四周嵌装金属线屏蔽辐射。

2.金属污染:镀膜材料有些(如铬、铟、铝)是对人体有害的,特别要注意真空室清理过程中出现的粉尘污染;

3.噪音污染:如特别是一些大的镀膜设备,机械真空泵噪音很大,可以把泵隔离在墙外;

4.光污染:离子镀膜过程中,气体电离发出强光,不宜透过观察窗久看;


PVD磁控溅射镀膜机的一般工作温度为多少?


溅射靶材专家指出,要看具体镀膜的类别和基材的情况而定,一般温度在0~500之间都是可控的。


Copyright  2009-2016 宝鸡市欧凯溅射靶材科技有限公司 版权所有  陕ICP备16008118号  技术支持:布瑞恩