浏览数量: 52 作者: 本站编辑 发布时间: 2017-06-28 来源: 本站
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集而形成高速能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。
各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。因此,对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加。据统计,1998年全球使用了大约2690吨的各类溅射靶材,1999年全球使用增加到2880吨的各类溅射靶材。目前世界溅射靶材生产厂家主要集中在美国、德国、日本。
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