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真空镀膜的三种形式

浏览数量:5     作者:本站编辑     发布时间: 2017-07-19      来源:本站

真空镀膜的三种形式

  真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜(也是金属反射膜的三种镀膜方式)。

  1、蒸发镀膜:通过在真空中加热蒸发某种物质使其产生金属蒸气沉积(凝聚)在固体表面成为薄膜,蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。

  2、溅射镀膜:用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上。通常将欲沉积的材料制成板材——靶材,固定在阴极上,可溅射 W、Ta、C、Mo、WC、TiC 等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法,即将反应气体 (O、N 等)加入 Ar 气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉积在基片上,沉积绝缘膜可采用高频溅射法。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流(DC)溅镀,而不导电的陶瓷材料则使用射频(RF)交流溅镀.

  3、离子镀膜:蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。与溅镀类似,但是将基板与周围保持 0.5~2KV 的负电压, 使基板的前端产生暗区,在此状态下由蒸发源放出的金属蒸气在辉光放电的电浆中形成离子,再被暗区加速后打到基板形成披覆。

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