真空电镀中溅射靶材的选用

　　真空电镀中溅射靶材的选用一直是人们比较关心的问题，目前，随着溅射镀膜特别是磁控溅射镀膜技术的日益发展，可以说对任何材料都可以通过离子轰击靶材制备薄膜，由于靶材被溅射的过程中将其涂覆到魔种基片上，对溅射膜的质量有着重要的影响，因此，对靶材的要求也更加严格。

　　一、靶材的选用原则及其分类

　　在靶材选用上，除了应按膜本身的用途进行选择外，还应考虑如下几个问题：

　　问题1、根据膜的用途与性能要求，所用的靶材必须满足纯度、杂志含量、组分均匀性、机械加工精度等技术要求。

　　问题2、靶材成膜后应具有良好的机械强度和化学稳定性;

　　问题3、作为反应溅射成膜的膜材必须易与反应气体生成化合物膜;

　　问题4、靶材与基体集合必须牢固，否则应采取与基体具有较好结合力的膜材，先溅射一层底膜再进行所需膜层的制备;

　　问题5、在满足膜性能要求的前提下，靶材与基体的热膨胀系数的差值越小越好，借以减小溅射膜热应力的影响;

　　二、几种常用靶材的制备

　　(1)ITO靶

　　制备ITO膜所用的靶材，过去通常采用In-Sn合金材料来制靶。

　　(2)铬靶

　　铬作为溅射膜材不但易与基材结合有很高的附着力，而且铬与氧化物生成CrQ3膜时，其机械性能、耐酸性能、热稳定性能都较好。

　　(3)金及合金靶

　　金，光泽迷人，具有良好的耐蚀性，是理想的装饰品表面涂覆材料。

　　宝鸡欧凯溅射靶材科技有限公司主要经营：钛靶 锆靶，铝靶，镍靶，铬靶，钨靶，钼靶，铜靶，硅靶，铌靶，钽靶，钛硅合金靶，钛铌合金靶，钛钨合金靶，钛锆合金靶，镍铬合金靶，硅铝合金靶，镍钒合金靶，铬铝硅三元合金靶，钛铝硅三元合金靶材等，广泛应用于装饰/硬面和功能镀膜、建筑玻璃、平面显示/光学光电、光存储、电子、印刷等行业。

　　宝鸡欧凯溅射靶材科技有限公司，全心全意解决客户在首饰电镀中遇到的所有问题，想客户之所想，急客户之所急，立志为客户提供最优质的真空电镀技术。了解更多有关溅射靶材资讯可以登陆宝鸡欧凯溅射靶材官网，感谢您的耐心观看。