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真空电镀中溅射靶材的选用

浏览数量:60     作者:本站编辑     发布时间: 2017-05-15      来源:本站

真空电镀中溅射靶材的选用

  真空电镀中溅射靶材的选用一直是人们比较关心的问题,目前,随着溅射镀膜特别是磁控溅射镀膜技术的日益发展,可以说对任何材料都可以通过离子轰击靶材制备薄膜,由于靶材被溅射的过程中将其涂覆到魔种基片上,对溅射膜的质量有着重要的影响,因此,对靶材的要求也更加严格。

  一、靶材的选用原则及其分类

  在靶材选用上,除了应按膜本身的用途进行选择外,还应考虑如下几个问题:

  问题1、根据膜的用途与性能要求,所用的靶材必须满足纯度、杂志含量、组分均匀性、机械加工精度等技术要求。

  问题2、靶材成膜后应具有良好的机械强度和化学稳定性;

  问题3、作为反应溅射成膜的膜材必须易与反应气体生成化合物膜;

  问题4、靶材与基体集合必须牢固,否则应采取与基体具有较好结合力的膜材,先溅射一层底膜再进行所需膜层的制备;

  问题5、在满足膜性能要求的前提下,靶材与基体的热膨胀系数的差值越小越好,借以减小溅射膜热应力的影响;

  二、几种常用靶材的制备

  (1)ITO靶

  制备ITO膜所用的靶材,过去通常采用In-Sn合金材料来制靶。

  (2)铬靶

  铬作为溅射膜材不但易与基材结合有很高的附着力,而且铬与氧化物生成CrQ3膜时,其机械性能、耐酸性能、热稳定性能都较好。

  (3)金及合金靶

  金,光泽迷人,具有良好的耐蚀性,是理想的装饰品表面涂覆材料。

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