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直流磁控溅射靶材被穿透时产生的现象

浏览数量:101     作者:本站编辑     发布时间: 2017-08-07      来源:本站

直流磁控溅射靶材被穿透时产生的现象

  有许多客户会有这样的疑问,在金属靶材生产过程中,怎样监控靶材用量?随着靶材变薄,电压是不是会降低?宝鸡欧凯溅射靶材帮您解决这个问题。

  1. 靶材穿透 不等于 电极穿透。 靶材一般都是固定在(相对)厚金属(例如 Cu)电极上。

  2. 由于电、磁、气、、等离子体、安装、靶材自身等因素的影响,靶材的消耗是不均匀的,基本成一个 环“U”状。“U”谷深度也不尽相同,存在一个薄弱点(最先穿透)。

  3. 穿透时电压、电流变化:主要视 (金属)靶材 、基座 的材料特性(原子序数、半径、电导率……)而有差异。

  4. 厚度监测:首先必须知道 初始靶材厚度,监测分两种: a. 直接法:打开机台,拆下靶材测量,绘出剩余靶材厚度分布图, b. 间接法:最大溅射淀积速率 x 时间 x 工艺批(片) = 安全系数 x 初始厚度。 其中安全系数由a给出,或保守取值。


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