钼溅射靶材的应用

钼是一种金属元素，主要用于钢铁工业，其中的大部分是以工业氧化钼压块后直接用于炼钢或铸铁，少部分熔炼成钼铁 钼箔片后再用于炼钢。它可增强合金的强度、硬度、可焊性及韧性，还可增强其耐高温强度及耐腐蚀性能。

欧凯靶材专家指出，钼溅射靶材可在各类基材上形成薄膜,这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品,如目前广泛应用的TFT-LCD(ThinFilmTransitor-LiquidCrystalDis-plays,薄膜半导体管-液晶显示器)、等离子显示屏、无机光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMOS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。

钼溅射靶材的应用

在电子行业中,钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料。这些是基于钼的高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。

钼具有比阻抗和膜应力仅为铬的1/2的优势,而且不存在环境污染问题,因此成为了平面显示器溅射靶材的首选材料之一。此外,钼使用在LCD的元器件中,可使液晶显示器在亮度、对比度、色彩以及寿命方面的性能大大提升。

平面显示器行业中,钼溅射靶材的主要市场应用之一是TFT-LCD领域。市场研究表明,未来几年是LCD发展的高峰期,年增长率达30%左右。随着LCD的发展,LCD溅射靶材的消费量也快速增长,年增长率约为20%。2006年全球钼溅射靶材的需求量约700t,2007年则为900t左右。LCD用钼溅射靶材近几年的需求量如图1所示。

除平面显示器行业外,随着新能源行业的发展,钼溅射靶在薄膜太阳能光伏电池上的应用也日益增加。钼溅射靶材主要通过溅镀形成CIGS(铜铟镓硒)薄膜电池电极层。图2是CIGS太阳能电池的结构示意图,其中Mo处于太阳能电池的最底层,作为太阳能电池的背接触,其对CIGS薄膜晶体的成核、生长、形貌有着非常重要的作用。

目前，国外钼溅射靶材的主要生产厂商有德国Heraeus公司、日本HitachMetal公司、日本Tosho公司、奥地利Plansee公司以及德国的H.C.Starck公司。但迄今为止,由于设备和技术的限制,国内仍没有专门生产钼溅射靶材的专业大公司,大量钼溅射靶材仍需从国外进口。

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