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真空镀膜的原理

浏览数量:28     作者:本站编辑     发布时间: 2017-08-30      来源:本站

真空镀膜的原理

  真空镀膜,是指在真空中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射,沉积到基片表面形成单层或多层薄膜。宝鸡欧凯溅射靶材主要为大家介绍真空镀膜的原理。

  1.真空蒸发镀膜

  蒸发镀膜,要求从蒸发源出来的蒸汽分子或原子,到达被镀膜基片的距离要小于镀膜室内残余气体分子的平均自由程,这样才能保证蒸发物的蒸汽分子能无碰撞地到达基片表面。保证薄膜纯净和牢固,蒸发物也不至于氧化。

  2.真空溅射镀膜

  在真空中,被加速的离子碰撞固体时,一方面使晶体受到损伤,另一方面与构成晶体的原子相互碰撞,最后使固体表面的原子或分子向外部溅射,溅射物质镀到基片上形成薄膜,称为真空溅射镀膜。溅射方式很多,其中应用最早的是二极溅射,根据阴极靶材不同,分为直流(DC)和高频(RF)两种。用一个离子打击靶表面所溅射出来的原子数称为溅射率。溅射率大,膜层生成速度就快。溅射率与离子的能量、种类、以及靶材料的种类有关。一般地说,溅射率随人射离子能量的增大而增大,贵重金属溅射率较高。

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