高纯溅射靶材行业现状及发展趋势

　　近年以来，随着消费电子等终端应用市场的飞速发展，高纯溅射靶材的市场规模日益扩大，呈现高速增长的势头。今天主要探讨高纯溅射靶材行业现状及发展趋势。

　　行业现状：

　　跨国公司优势明显，行业内处于领导地位美，日的半导体工业相继催生了一批高纯溅射靶材生产厂商，居于全球市场的主导地位。

　　国内专业厂商兴起，与国外差距逐步缩小。国内产业起步较晚，但经过数年攻关，相关企业已拥有部分产品的规模化生产能力。

　　我国目前已经成为继美，日之后世界上第三个能够生产低氧超高纯钛的国家。

　　发展趋势：

　　提高溅射靶材利用率

　　精确控制溅射靶材晶粒向

　　溅射靶材大尺寸，高纯度化发展