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高纯溅射靶材行业现状及发展趋势

浏览数量:45     作者:本站编辑     发布时间: 2017-06-26      来源:本站

高纯溅射靶材行业现状及发展趋势

  近年以来,随着消费电子等终端应用市场的飞速发展,高纯溅射靶材的市场规模日益扩大,呈现高速增长的势头。今天主要探讨高纯溅射靶材行业现状及发展趋势。

  行业现状:

  跨国公司优势明显,行业内处于领导地位美,日的半导体工业相继催生了一批高纯溅射靶材生产厂商,居于全球市场的主导地位。

  国内专业厂商兴起,与国外差距逐步缩小。国内产业起步较晚,但经过数年攻关,相关企业已拥有部分产品的规模化生产能力。

  我国目前已经成为继美,日之后世界上第三个能够生产低氧超高纯钛的国家。

  发展趋势:

  提高溅射靶材利用率

  精确控制溅射靶材晶粒向

  溅射靶材大尺寸,高纯度化发展


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