浏览数量: 88 作者: 本站编辑 发布时间: 2017-06-26 来源: 本站
近年以来,随着消费电子等终端应用市场的飞速发展,高纯溅射靶材的市场规模日益扩大,呈现高速增长的势头。今天主要探讨高纯溅射靶材行业现状及发展趋势。
行业现状:
跨国公司优势明显,行业内处于领导地位美,日的半导体工业相继催生了一批高纯溅射靶材生产厂商,居于全球市场的主导地位。
国内专业厂商兴起,与国外差距逐步缩小。国内产业起步较晚,但经过数年攻关,相关企业已拥有部分产品的规模化生产能力。
我国目前已经成为继美,日之后世界上第三个能够生产低氧超高纯钛的国家。
发展趋势:
提高溅射靶材利用率
精确控制溅射靶材晶粒向
溅射靶材大尺寸,高纯度化发展