当前所在位置: 欧凯靶材 » 新闻中心 » 溅射靶材相关技术文档 » 磁控溅射靶材的制备方法

磁控溅射靶材的制备方法

浏览数量:15     作者:欧凯靶材小编     发布时间: 2017-12-04      来源:欧凯靶材

磁控溅射靶材的制备方法

  磁控溅射靶材的制备技术方法按生产工艺可分为熔融铸造法和粉末冶金法两大类,在靶材的制备过程中,除严格控制材料的纯度、致密度、晶粒度以及结晶取向之外,对热处理工艺条件、后续成型加工过程亦需要加以严格的控制,以保证靶材的质量。


  方法一、粉末冶金法


  通常,熔融铸造法无法实现难熔金属溅射靶材的制备,对于熔点和密度相差较大的两种或两种以上的金属,采用普通的熔融铸造法,一般也难以获得成分均匀的合金靶材;


  方法二、熔融铸造法


  与粉末冶金法相比,熔融铸造法生产的靶材产品杂质含量低,致密度高。


  对于无机非金属靶材、复合靶材,熔融铸造法更是无能为力,而粉末冶金法是解决制备上述靶材技术难题的最佳途径。同时,粉末冶金工艺还具有容易获得均匀细晶结构、节约原材料、生产效率高等优点。


Copyright  2009-2016 宝鸡市欧凯溅射靶材科技有限公司 版权所有  陕ICP备16008118号  技术支持:布瑞恩