合金靶材的溅射原理

　　合金靶材的溅射原理：

　　对溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

　　溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。

　　欧凯靶材专业生产和销售真空磁控溅射靶材。拥有专业的研发和销售售后服务队伍，为客户提供良好的技术支持和售后服务。产品主要有：钛、铬、镍、锆、钛铝等有色金属及合金的管、棒、板等镀膜靶材。我们为装饰和功能镀膜工业、平面显示工业、光数据储存工业(光盘工业)、光通讯工业、玻璃镀膜(建筑玻璃和汽车玻璃)工业等行业提供专业的服务。