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钛旋转靶材详细规格：外径：182mm，内径：148mm，长度：3650mm投料：单根600kg成品：单根150kg靶管
靶材种类比较多,有金属类、合金类、氧化物类等等,用的行业也有所不同,应用很广泛。那么常见的金属靶材有哪些?溅射靶材是否希缺资源？下面我们一起了解一下。
基于坚实的研发背景和生产能力，欧凯靶材拥有粉末冶金，真空感应熔炼，悬浮熔炼等多种铸锭工艺，配合先进的热处理工艺及精密机加工工艺，生产加工各种高纯金属及稀土系列靶材，广泛应用于电子半导体，太阳能光伏，平面显示，磁记录，功能性薄膜等领域。
PVD镀膜技术作为制备薄膜材料的主流技术，而溅射靶材亦是目前市场应用量最大的。
超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。
按照应用领域不同，电子溅射靶材可以分为半导体靶材、平面靶材、镀膜玻璃靶材、太阳能光伏靶材等，不同应用领域对金属材料的选择和性能要求存在一定的差异。
中国触摸屏网讯，触摸屏技术诞生于上世纪70年代美国军方。近年来，iPod音乐播放器以及后来衍生出的iPhone手机，成为触摸屏大发展的原动力。随着这两款新的应用风靡全球，大大促进了触摸屏的发展。
镀膜的方法很多，真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶法等。它要求膜层要有非常强的附着力，附着力不强的叫覆盖。
钛硅合金是氮化物硬质涂层的镀膜材料，硅保证了优异的抗氧化性，钛能确保涂层具有极高的硬度。两者组合起来，即使在极高温下也具有耐磨性。钛硅氮涂层耐磨性极强，在高速加工中不使用冷却剂也没有问题。
